GEM PVD Kaplamaların Geliştirilmesi
GEM PVD Kaplamaların Geliştirilmesi :
2000 - 2013
Monoblok ve Çok katmanlı kaplamalar:
- Yapışma tabakası dahil
- Kalınlık: 1-10 µm
- TiN(CN),(Ti,Al)N(CN),CrN(CN), (Cr,Al)N(CN),TiSiN(CN), (Ti,Al,Si)N,(Cr,Al, Si)N(CN)
- Sertlik: 38 Gpa’ya kadar
- Yapışma seviyesi: HF1
- Pürüzlülük(Ra): 0.1-0.5 µm
- Genel uygulamalar için

2000 - 2013
After 2020



